光刻设备中的偏振辐射和器件制造方法
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
光刻设备使用偏振光改善成像特性，例如曝光宽容度，同时保持和延长光刻设备中照射系统的寿命。
基本信息
专利标题 ：
光刻设备中的偏振辐射和器件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1797202A
申请号 ：
CN200510003503.5
公开（公告）日 ：
2006-07-05
申请日 ：
2005-12-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
C·瓦格纳W·P·德博伊T·海尔D·菲奥卡R·德乔阁
申请人 ：
ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
杨凯
优先权 ：
CN200510003503.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2011-04-06 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101079895487
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005100035035
变更事项 : 专利权人
变更前 : ASML荷兰有限公司
变更后 : ASML荷兰有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 荷兰维尔德霍芬
变更后 : 荷兰维尔德霍芬
变更事项 : 共同专利权人
变更前 : 卡尔蔡司SMT股份公司
变更后 : 卡尔蔡司SMT有限责任公司
号牌文件序号 : 101079895487
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005100035035
变更事项 : 专利权人
变更前 : ASML荷兰有限公司
变更后 : ASML荷兰有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 荷兰维尔德霍芬
变更后 : 荷兰维尔德霍芬
变更事项 : 共同专利权人
变更前 : 卡尔蔡司SMT股份公司
变更后 : 卡尔蔡司SMT有限责任公司
2010-12-08 ：
授权
2008-02-13 ：
实质审查的生效
2006-07-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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