变更光点位置的投影装置

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

变更光点位置的投影装置，将从光源产生的光通过色盘分离成R、G、B光后，再将分离的R、G、B光通过聚光透镜和显示元件投射到屏幕，包括以下两个反射手段：将从光源产生的光向上实施垂直反射后，再将垂直反射的光向上述色盘方向实施水平反射的第一反射手段；将被上述色盘分离的R、G、B光向下实施垂直反射后，将垂直反射过来的R、G、B光向上述聚光透镜方向实施水平反射的第二反射手段。本发明通过移动照射到色盘的光点位置来防止色盘的组成元件被光烧坏，因此可以延长色盘的寿命，并可节省更换色盘的费用。

基本信息

专利标题：

变更光点位置的投影装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1955783A

申请号：

CN200510017249.4

公开（公告）日：

2007-05-02

申请日：

2005-10-28

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

崔基训

申请人：

乐金电子（沈阳）有限公司

申请人地址：

110179辽宁省沈阳市高新技术开发区35，40号

代理机构：

沈阳技联专利代理有限公司

代理人：

张志刚

优先权：

CN200510017249.4

主分类号：

G02B26/08

IPC分类号：

G02B26/08 G03B21/28 G02B27/18