双面显示装置
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摘要
一种双面显示装置，包括一基板、一第一发光元件、一第二发光元件及一上盖。两种发光元件均设置于基板上，其中第一发光元件具有一第一发光方向，而第二发光元件相邻于该第一发光元件，并且具有一第二发光方向。上盖位于第一发光元件与第二发光元件上方，并且与该些发光元件之间保持1至100微米的间距。
基本信息
专利标题 ：
双面显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1805149A
申请号 ：
CN200510022939.9
公开（公告）日 ：
2006-07-19
申请日 ：
2005-12-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
邱圳毅胡闵杰
申请人 ：
友达光电股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹市
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200510022939.9
主分类号 ：
H01L27/32
IPC分类号 ：
H01L27/32 H01L27/15 H05B33/12
相关图片
法律状态
2008-11-26 ：
授权
2006-09-13 ：
实质审查的生效
2006-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN100438066C.PDF
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