微波暗室用微波吸收剂及其聚氨酯型吸收材料制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种微波暗室用微波吸收剂及其聚氨酯型吸收材料制造方法，吸收剂由羰基物，铁氧体，碳吸收体，合成剂，调和剂，阻燃剂，液体阻燃剂组成；其配比(百分比)是：羰基物18－22，铁氧体8－12，碳吸收体25－35，合成剂4－6，调和剂4－6，阻燃剂18－22，液体阻燃剂8－12；聚氨酯型吸收材料制造方法，是通过以下步骤实现的：吸收剂均匀调和与水和聚乙烯醇溶剂内；将切割成型的聚氨酯浸入混合液中反复挤压达到一定重量后取出；进入烘房，待水份烘干后取出；进行表面处理；本发明的有益效果是：实现了多种微波吸收体的合成技术，提高了电磁波在材料内通过电场能量与磁场能量转换为热能；在国内原有材料基础上，吸收率提高70％以上。
基本信息
专利标题 ：
微波暗室用微波吸收剂及其聚氨酯型吸收材料制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1949961A
申请号 ：
CN200510030404.6
公开（公告）日 ：
2007-04-18
申请日 ：
2005-10-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
唐荣喜章宏
申请人 ：
上海俊悦光纤网络科技有限公司
申请人地址 ：
200070上海市共和新路966号5楼504室
代理机构 ：
上海智信专利代理有限公司
代理人 ：
薛琦
优先权 ：
CN200510030404.6
主分类号 ：
H05K9/00
IPC分类号 ：
H05K9/00 C09K3/00
法律状态
2010-07-14 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003238628
IPC(主分类) : H05K 9/00
专利申请号 : 2005100304046
公开日 : 20070418
号牌文件序号 : 101003238628
IPC(主分类) : H05K 9/00
专利申请号 : 2005100304046
公开日 : 20070418
2008-12-10 ：
实质审查的生效
2007-04-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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