大动态微机械可变光衰减器的制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种大动态微机械可变光衰减器的制造方法,它涉及光电子领域中的可变光衰减器器件的制造。本发明在硅基片上采用体硅微机械加工技术制造大动态微机械可变光衰减器的驱动器、可动硅挡板、光纤光路定位结构等部件。它利用在外加驱动力作用下,使可动硅挡板在输入光纤和输出光纤端面间的间隙中移动,达到可动硅挡板部分阻断光纤传输光信号的通过,从而起到对传输光的能量衰减控制作用。本发明制造的可变光衰减器器件具有大动态衰减范围、低插入损耗、功耗低、体积小、成本低、易集成和批量化等特点,可以制成系列的可变光衰减器,特别适用于高速大规模的全光光纤通信网络中作可变光衰减器器件装置。
基本信息
专利标题 :
大动态微机械可变光衰减器的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1794024A
申请号 :
CN200510048239.7
公开(公告)日 :
2006-06-28
申请日 :
2005-12-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李海军杨拥军徐永青郑七龙
申请人 :
中国电子科技集团公司第十三研究所
申请人地址 :
050051河北省石家庄市合作路113号38分箱
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200510048239.7
主分类号 :
G02B6/26
IPC分类号 :
G02B6/26 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导;包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/24
光波导的耦合
G02B6/26
光耦合装置
法律状态
2008-05-28 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-08-23 :
实质审查的生效
2006-06-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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