一种口腔义齿、印模、石膏模型的消毒方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种口腔义齿、印模、石膏模型的消毒方法。它通过电解氯化钠或氯化钾溶液，生成酸性氧化还原电位水，利用超声震荡的方法生成的酸性氧化还原电位水雾化，并形成酸性氧化还原电解雾气饱和空间，待消毒口腔义齿、印模、石膏模型在雾气饱和空间内消毒25～90分钟，经消毒的口腔义齿、印模、石膏模型干燥30～60分钟即可。本发明可以迅速杀灭口腔医疗器械上的致病微生物，解决了口腔义齿、印模、石膏模型高效消毒和保证其精密度两者之间的难题，具有取材方便、消毒废液可回收，无污染、高效安全环保等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种口腔义齿、印模、石膏模型的消毒方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1775293A
申请号 ：
CN200510061699.3
公开（公告）日 ：
2006-05-24
申请日 ：
2005-11-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
俞雪芬吴刚谷志远
申请人 ：
浙江大学医学院附属口腔医院
申请人地址 ：
310006浙江省杭州市延安路395号
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
张法高
优先权 ：
CN200510061699.3
主分类号 ：
A61L2/20
IPC分类号 ：
A61L2/20
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61L
材料或消毒的一般方法或装置；空气的灭菌、消毒或除臭；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的化学方面；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的材料
A61L2/00
食品或接触透镜以外的材料或物体的灭菌或消毒的方法或装置；其附件
A61L2/16
应用化学物质
A61L2/20
气态物质，例如蒸汽
法律状态
2009-05-20 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-07-19 ：
实质审查的生效
2006-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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