用于调节密封剂分配器中支撑框架的对准的方法
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摘要
本发明公开了一种用于调节密封剂分配器中的至少一个支撑框架的对准的方法。该方法包括当沿第一方向移动对准传感器时，识别设置在玻璃衬底上的至少两个校正标记。在此，第一方向是平行于支撑框架长边的方向。该方法还包括确定连接由对准传感器识别的至少两个校正标记的虚直线是否平行于第一方向；以及调节至少一个支撑框架的对准，使得虚直线平行于第一方向。
基本信息
专利标题 ：
用于调节密封剂分配器中支撑框架的对准的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1991526A
申请号 ：
CN200510097113.9
公开（公告）日 ：
2007-07-04
申请日 ：
2005-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
方圭龙金润会林永一
申请人 ：
塔工程有限公司
申请人地址 ：
韩国庆尚北道
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
余刚
优先权 ：
CN200510097113.9
主分类号 ：
G02F1/1339
IPC分类号 ：
G02F1/1339 G02F1/1333
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/1339
•••••垫圈；间隔体；液晶单元的密封
法律状态
2009-01-21 ：
授权
2007-08-29 ：
实质审查的生效
2007-07-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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