用于放置辅助特征的方法和装置
授权
摘要
本发明的一个实施例提供了一种在一个布局中确定放置辅助特征的位置的系统。在操作过程中，所述系统接收一个集成电路布局。然后，所述系统在该布局中选择一个求值点。所述系统然后在该布局中选择一个候选位置，用于放置辅助特征。接下来，所述系统以迭代方式执行以下步骤从而确定在该布局中放置辅助特征的最终位置：(a)在候选位置的附近选择扰动位置用于放置代表性的辅助特征，(b)使用图像强度模型、该布局、以及通过在候选位置和扰动位置放置代表性的辅助特征来计算空间图像，(c)基于所述空间图像，计算所述求值点处的图像梯度值，和(d)基于所述图像梯度值更新辅助特征的候选位置。
基本信息
专利标题 ：
用于放置辅助特征的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1801159A
申请号 ：
CN200510097600.5
公开（公告）日 ：
2006-07-12
申请日 ：
2005-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
L·S·纳尔文三世
申请人 ：
新思公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵蓉民
优先权 ：
CN200510097600.5
主分类号 ：
G06F17/50
IPC分类号 ：
G06F17/50
法律状态
2013-05-01 ：
授权
2008-02-20 ：
实质审查的生效
2006-07-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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