活性聚光无机去污膏
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明是一种活性聚光无机去污膏，由活性剂、摩擦剂、抗沉淀剂，增稠剂等基本成分组成，其中活性剂采用烷基苯磺酸，增稠剂采用羧甲基纤维素钠，摩擦剂采用方解石粉，抗沉淀剂选用硫酸和硅酸钠的混合浆料。各种成分经一定处理后在均质机中搅拌，至均匀混合。本发明与通常的同类产品相比，去污力强，可用于物体表面各种污垢的清除，尤其可用于油泥、锈斑等硬性污垢的清除，同时对金属物表面还有一定的聚光作用。其制备可在常温常压下进行，工艺简单，成本低廉。
基本信息
专利标题 ：
活性聚光无机去污膏
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1974744A
申请号 ：
CN200510101655.9
公开（公告）日 ：
2007-06-06
申请日 ：
2005-11-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李镝
申请人 ：
李镝
申请人地址 ：
528000广东省佛山市南海区盐步穗盐路雍景豪园御景台261号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200510101655.9
主分类号 ：
C11D1/22
IPC分类号 ：
C11D1/22 C11D3/37 C11D3/06 C11D3/08 C11D3/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D1/00
主要以表面活性化合物为基料的洗涤组合物；使用这些化合物作为洗涤剂
C11D1/02
阴离子化合物
C11D1/12
磺酸或硫酸脂；其盐类
C11D1/22
由芳族化合物衍生的
法律状态
2009-08-19 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-06-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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