清洗探头和具有该探头的兆频超声波设备
授权
摘要
本发明公开了一种清洗探头和具有所述清洗探头的兆频超声波清洗设备，所述清洗探头能够对整个晶片提供均匀的清洗，而且不损伤晶片的边缘部分。所述清洗探头包括：位于接近晶片中心的前部分、连接到压电换能器的后部分，和位于所述后部分和所述前部分之间的突起，且所述突起的横截面宽度大于所述前部分的横截面宽度。
基本信息
专利标题 ：
清洗探头和具有该探头的兆频超声波设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1757447A
申请号 ：
CN200510107029.0
公开（公告）日 ：
2006-04-12
申请日 ：
2005-09-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金善正
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200510107029.0
主分类号 ：
B08B3/12
IPC分类号 ：
B08B3/12
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
B08B3/12
用声波或超声波振动的（声波或超声波陶器或餐具清洗或冲洗机入A47L15/13；使用超声波技术清洗或冲洗天然牙、假牙或类似于天然牙的入A61C17/20；超声波振动用于一般化学、物理，或物理化学过程中的入B01J19/10
法律状态
2010-06-02 ：
授权
2007-10-24 ：
实质审查的生效
2006-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
