微透镜阵列片及其制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开一种微透镜阵列片及其制造方法。该微透镜阵列片包括:透明衬底,其被排列有微透镜;基部,其被在该透明衬底上形成至由用户所定的高度,该基部被形成在与后来要形成微透镜的相同的位置上;微透镜,其被形成在基部上;以及填隙薄膜,其被加在产生的微结构上,其中作为对该基部的上部进行平坦化的结果,该基部具有相同的高度。该方法包括步骤:(a)在透明支承衬底或薄膜上淀积具有用户所需的形状和厚度的基部成形模,并在该基部成形模间装入要用作基部的材料;(b)对要用作基部的材料的上部进行抛光,使得形成具有相同水平面的基部,并去除该基部成形模;(c)在形成的基部上淀积微透镜;以及(d)在产生的结构上淀积填隙薄膜。
基本信息
专利标题 :
微透镜阵列片及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1752775A
申请号 :
CN200510107526.0
公开(公告)日 :
2006-03-29
申请日 :
2005-09-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吴昌勋权赫林泰宣李泳柱朴纪垣成东默李根雨
申请人 :
LG电子株式会社;LG麦可龙电子公司
申请人地址 :
韩国首尔
代理机构 :
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 :
樊卫民
优先权 :
CN200510107526.0
主分类号 :
G02B3/00
IPC分类号 :
G02B3/00 G02B1/04 G02B1/00 G02F1/1335
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2009-12-30 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-05-24 :
实质审查的生效
2006-03-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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