化学机械抛光废液分流收集装置及其收集方法

专利权的终止

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摘要

一种单独收集化学机械抛光过程中高污染物水平废液的装置和方法，特征在于将抛光装置产生的高污染水平废液经受控单向阀单独排放至特定容器并单独处理。因而，大大降低了晶圆厂总废液的污染物水平，有利于降低晶圆厂污水处理成本。

基本信息

专利标题：

化学机械抛光废液分流收集装置及其收集方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1986158A

申请号：

CN200510111676.9

公开（公告）日：

2007-06-27

申请日：

2005-12-19

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

徐根保张开军

申请人：

中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江路18号

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

顾晋伟

优先权：

CN200510111676.9

主分类号：

B24B57/00

IPC分类号：

B24B57/00 H01L21/304

IPC结构图谱

B部——作业；运输

B24

磨削；抛光

B24B

用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给

B24B57/00

磨削抛光或研磨剂的进料，加料，分选或回收设备

法律状态

2019-12-06 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B24B 57/00
申请日 : 20051219
授权公告日 : 20090311
终止日期 : 20181219

2012-01-11 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101263313265
IPC(主分类) : B24B 57/00
专利号 : ZL2005101116769
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201203 上海市浦东新区张江路18号
变更后权利人 : 201203 上海市浦东新区张江路18号
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
登记生效日 : 20111205

2009-03-11 ：

授权

2007-08-22 ：

实质审查的生效

2007-06-27 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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2、

CN100467227C.PDF

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