六氟化硫远程清洁等离子源
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种清洁一基板处理室的方法，包括引入一气体混合物至一远程等离子源，其中该气体混合物包含六氟化硫及一含氧化合物，该含氧化合物是选自由氧气及一氧化二氮所组成的群组中；将该气体混合物的一部份解离成为离子；传送这些离子进入处理室中的一处理区；提供一原位等离子；并通过与这些离子反应而清除该处理室中的沉积物。
基本信息
专利标题 ：
六氟化硫远程清洁等离子源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1782133A
申请号 ：
CN200510114111.6
公开（公告）日 ：
2006-06-07
申请日 ：
2005-10-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
崔寿永王群华
申请人 ：
应用材料股份有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海新高专利商标代理有限公司
代理人 ：
楼仙英
优先权 ：
CN200510114111.6
主分类号 ：
C23F4/00
IPC分类号 ：
C23F4/00 C23F1/12 C23C16/513 H01L21/205
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23F
非机械方法去除表面上的金属材料；金属材料的缓蚀；一般防积垢；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法的多步法金属材料表面处理
C23F4/00
不包含在C23F1/00或C23F3/00组中的表面除去金属材料的工艺
法律状态
2010-02-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-02-28 ：
实质审查的生效
2006-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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