显微镜用的透光基底及透光基底的照明强度的调整方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明是有关于一种显微镜用的透光基底及透光基底的照明强度的调整方法。该物件的照明用的透光基底,其藉由一变焦显微镜以进行成像,此透光基底具有:整合式光源,其具有附加的电功率调整器以产生适当的光束通量;以及可切换的元件,其用来产生一预设的光谱强度分布。为了可补偿此变焦显微镜特别是在变焦时所产生的较小的动态性的亮度上的变化,须设有一种可连续调整的机械式亮度调整器,其可藉由所属的设定单元来进行控制,以便在不须改变光谱强度分布的情况下即可调整此透光基底的照明强度。亮度调整器贴近地配置在一作为光源用的反射灯的光发出侧,或在使用一种灯和聚光透镜作为光源时此亮度调整器贴近地配置在聚光透镜处。
基本信息
专利标题 :
显微镜用的透光基底及透光基底的照明强度的调整方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1779499A
申请号 :
CN200510117214.8
公开(公告)日 :
2006-05-31
申请日 :
2005-10-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
卢艾迪·罗特曼恩派崔克·卡普夫欧透·葛雀温特尔可劳斯彼得·材曼
申请人 :
莱卡显微系统瑞士股份有限公司
申请人地址 :
瑞士西本
代理机构 :
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 :
寿宁
优先权 :
CN200510117214.8
主分类号 :
G02B21/06
IPC分类号 :
G02B21/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
G02B21/06
试样的照明装置
法律状态
2009-10-07 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-11-21 :
实质审查的生效
2006-05-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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