离子迁移膜系统中原料气污染物的去除
专利权的终止
摘要
用于气体纯化的方法，包括(a)获得含有一种或多种选自挥发性金属羟基氧化物、挥发性金属氧化物和挥发性氢氧化硅的污染物的原料气流；(b)使原料气流与活性固体材料在保护床中接触，并使至少部分污染物与活性固体材料反应以在保护床中形成固体反应产物；和(c)从保护床中取出纯化气流。
基本信息
专利标题 ：
离子迁移膜系统中原料气污染物的去除
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1830523A
申请号 ：
CN200510119178.9
公开（公告）日 ：
2006-09-13
申请日 ：
2005-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·F·卡罗兰C·F·米勒
申请人 ：
气体产品与化学公司
申请人地址 ：
美国宾夕法尼亚州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
韦欣华
优先权 ：
CN200510119178.9
主分类号 ：
B01D53/22
IPC分类号 ：
B01D53/22
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D53/00
气体或蒸气的分离；从气体中回收挥发性溶剂的蒸气；废气例如发动机废气、烟气、烟雾、烟道气或气溶胶的化学或生物净化
B01D53/22
用扩散法
法律状态
2017-02-22 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101705177359
IPC(主分类) : B01D 53/22
专利号 : ZL2005101191789
申请日 : 20051230
授权公告日 : 20091014
终止日期 : 20151230
号牌文件序号 : 101705177359
IPC(主分类) : B01D 53/22
专利号 : ZL2005101191789
申请日 : 20051230
授权公告日 : 20091014
终止日期 : 20151230
2009-10-14 ：
授权
2006-11-08 ：
实质审查的生效
2006-09-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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