成像设备
专利权的终止
摘要

一种成像设备,包括:多个载像构件;一个曝光单元,所述曝光单元用于将各载像构件暴露于图像光之下;显影装置,所述显影装置为各个载像构件而设置,用于通过所述曝光装置将所述载像构件上所形成的静电潜像显影成各自的调色剂图像;图像加热装置,所述图像加热装置用于将转印到记录材料上的调色剂图像加热;一个第一空气路径,所述第一空气路径与每个上述显影装置相对设置,并在每个所述显影装置的纵向方向上延伸;及一个第二空气路径,所述第二空气路径基本上与所述图像加热装置隔离设置,用于将空气从所述成像设备外部送到所述第一空气路径,其中所述第一空气路径设置在与所述显影装置相对的曝光单元壁表面上。

基本信息
专利标题 :
成像设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1773396A
申请号 :
CN200510119419.X
公开(公告)日 :
2006-05-17
申请日 :
2005-11-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
森正和
申请人 :
佳能株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
朱德强
优先权 :
CN200510119419.X
主分类号 :
G03G21/20
IPC分类号 :
G03G21/20  G03G15/06  G03G15/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03G
电记录术;电照相;磁记录
G03G21/00
不包括在G03G13/00至G03G19/00各组中的装置,例如,清洁、消除残余电荷
G03G21/20
湿度或温度控制
法律状态
2021-10-26 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03G 21/20
申请日 : 20051111
授权公告日 : 20091118
终止日期 : 20201111
2009-11-18 :
授权
2006-07-12 :
实质审查的生效
2006-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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