识别工件参数变化的系统和方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本申请设计识别工件参数变化的系统和方法。具体地,公开了一种信号处理系统,对检测到的在化学机械抛光(CMP)过程中产生的机械、化学、光学、电学或者热信号进行收集、分析并相对于现场时间进行微分,以揭示CMP期间的不同阶段,以进行工艺控制和确定结束点。这种控制和/或结束点确定方案可以用来检测具有类似的特性的两个材料层之间的界面,比如用于半导体的低k电介质叠层的界面。

基本信息
专利标题 :
识别工件参数变化的系统和方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1792552A
申请号 :
CN200510124680.9
公开(公告)日 :
2006-06-28
申请日 :
2005-11-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
欧格内·J·奥苏利文绍姆·S·伯诺斯曾伟志
申请人 :
国际商业机器公司
申请人地址 :
美国纽约
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
李春晖
优先权 :
CN200510124680.9
主分类号 :
B24B37/04
IPC分类号 :
B24B37/04  H01L21/304  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置;附件
B24B37/04
适用于加工平面的
法律状态
2009-05-06 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-08-23 :
实质审查的生效
2006-06-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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