电光学装置的制造方法及图像形成装置
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明提供可以避免微透镜的形状和其形成位置发生偏差、使由发光元件发出的光的取出效率提高的电光学装置的制造方法和图像形成装置。其解决方法是，在元件基板(30)的发光元件形成面上形成像素(34)(步骤S11)，在该像素(34)上形成粘接层(La1)，将支持基板(38)粘贴在元件基板(30)上(步骤S12)。接着，磨削具备像素(34)及支持基板(38)的元件基板(30)的磨削面而形成粘贴面(步骤S13)，在薄片基板(39)的透镜形成面(39a)上形成微透镜(40)(步骤S22)。而且，使具备微透镜(40)的薄片基板(39)粘贴在元件基板(30)的粘贴面上。
基本信息
专利标题 ：
电光学装置的制造方法及图像形成装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1784095A
申请号 ：
CN200510125466.5
公开（公告）日 ：
2006-06-07
申请日 ：
2005-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高桥克弘
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
李香兰
优先权 ：
CN200510125466.5
主分类号 ：
H05B33/10
IPC分类号 ：
H05B33/10 H05B33/02 H05B33/14 B41J2/44 B41J2/455 G03G15/04
法律状态
2009-12-30 ：
发明专利申请公布后的驳回
2006-08-02 ：
实质审查的生效
2006-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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