液晶显示装置及其制造方法
授权
摘要
本发明提供一种液晶显示装置及其制造方法,该液晶显示装置的TFT阵列基板使用较现况为少的光刻程序数或光罩数,以降低制造成本。本发明提供一种利用三道光罩即可形成显示装置用TFT阵列基板的新技术,此是借助一种新颖技术和周知的四道遮罩程序的组合而达成者。该新颖技术是于使用感光性丙烯酸树脂膜形成接点的光刻程序中,借着具有相位移转效果的光罩,仅凭一次光刻程序同时形成具有在一般的接触孔部分所需的锥形图案及具有比较接近垂直的锥形状的微细图案,后续程序不必使用光刻程序就可分离像素电极图案。
基本信息
专利标题 :
液晶显示装置及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1773356A
申请号 :
CN200510128598.3
公开(公告)日 :
2006-05-17
申请日 :
2005-11-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
堀野滋和董畯豪曾贤楷
申请人 :
广辉电子股份有限公司
申请人地址 :
台湾桃园县
代理机构 :
永新专利商标代理有限公司
代理人 :
李树明
优先权 :
CN200510128598.3
主分类号 :
G02F1/136
IPC分类号 :
G02F1/136 G02F1/1335 G02F1/133 H01L29/786 G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
法律状态
2008-04-30 :
授权
2006-07-12 :
实质审查的生效
2006-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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