涂覆特殊光学涂层的方法
专利权的终止
摘要
在由本发明设备实施的本发明方法中，用来使基底(10)的机械性能与涂覆在过渡层(12)上的层体系(16)的机械性能相匹配的过渡层(12)沉积在基底(10)的前表面(20)上。为此，在真空室(18)中进行的溅射过程中，反应产物(14)至少实质上仅掺入过渡层(12)中。这避免了真空室(18)的其它表面及基底(10)的背面(34)被反应产物(14)和/或其前体污染。
基本信息
专利标题 ：
涂覆特殊光学涂层的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1793420A
申请号 ：
CN200510129124.0
公开（公告）日 ：
2006-06-28
申请日 ：
2005-11-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
F·布雷姆
申请人 ：
萨蒂斯洛股份公司
申请人地址 ：
瑞士巴尔
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
郭广迅
优先权 ：
CN200510129124.0
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/54 C23C14/56 G02B1/10
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-10-27 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20051104
授权公告日 : 20111214
终止日期 : 20191104
申请日 : 20051104
授权公告日 : 20111214
终止日期 : 20191104
2011-12-14 ：
授权
2007-12-19 ：
实质审查的生效
2006-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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