本发明公开了一种激光照射装置、一种构图方法和使用该方法的制备OLED的方法。激光照射装置包括：光源、掩模以及投影透镜，菲涅耳透镜形成在掩模的预定部分以改变光路。当使用该激光照射装置形成有机层图案时，将激光辐射照射到待切割的有机层的区域上，并且激光辐射适当地照射到待从施主基板分离的有机层的区域上。照射到有机层图案的边缘上的激光辐射具有的能量密度大于照射到有机层图案的其它部分上的激光辐射的能量密度。于是，可以形成均匀的有机层图案，并且减少对有机层图案的损伤。