背光模块的清洗装置及清洗方法
专利申请权、专利权的转移
摘要
本发明涉及一种背光模块的清洗装置及清洗方法，适用于喷流清洁背光模块，该背光模块的清洗装置包含：一固定件，用以承载或固定该背光模块；以及一喷嘴运动机构，设置于该背光模块的对面，该喷嘴运动机构包含至少一喷嘴设置于其上，且该喷嘴喷发该喷流以清洗该背光模块。通过喷嘴喷发喷流以清洗背光模块，能够大幅节省人力成本及不需耗损时间，清洁背光模块效果良好。
基本信息
专利标题 ：
背光模块的清洗装置及清洗方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1987582A
申请号 ：
CN200510132046.X
公开（公告）日 ：
2007-06-27
申请日 ：
2005-12-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨胜仲卢建良钟明道李松忠
申请人 ：
财团法人金属工业研究发展中心;奇菱科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾高雄市
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
梁挥
优先权 ：
CN200510132046.X
主分类号 ：
G02F1/1333
IPC分类号 ：
G02F1/1333
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2013-09-18 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移变更前权利人 : 财团法人金属工业研究发展中心
变更后权利人 : 财团法人金属工业研究发展中心
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾高雄市
变更后权利人 : 中国台湾高雄市
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 奇菱光电股份有限公司
变更后权利人 : 奇菱科技股份有限公司
登记生效日 : 20130830
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101661663588
IPC(主分类) : G02F 1/1333
专利号 : ZL200510132046X
变更事项 : 专利权人
变更后权利人 : 财团法人金属工业研究发展中心
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾高雄市
变更后权利人 : 中国台湾高雄市
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 奇菱光电股份有限公司
变更后权利人 : 奇菱科技股份有限公司
登记生效日 : 20130830
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101661663588
IPC(主分类) : G02F 1/1333
专利号 : ZL200510132046X
变更事项 : 专利权人
2013-09-18 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101661663587
IPC(主分类) : G02F 1/1333
专利号 : ZL200510132046X
变更事项 : 专利权人
变更前 : 财团法人金属工业研究发展中心
变更后 : 财团法人金属工业研究发展中心
变更事项 : 地址
变更前 : 中国台湾高雄市
变更后 : 中国台湾高雄市
变更事项 : 专利权人
变更前 : 奇菱科技股份有限公司
变更后 : 奇菱光电股份有限公司
号牌文件序号 : 101661663587
IPC(主分类) : G02F 1/1333
专利号 : ZL200510132046X
变更事项 : 专利权人
变更前 : 财团法人金属工业研究发展中心
变更后 : 财团法人金属工业研究发展中心
变更事项 : 地址
变更前 : 中国台湾高雄市
变更后 : 中国台湾高雄市
变更事项 : 专利权人
变更前 : 奇菱科技股份有限公司
变更后 : 奇菱光电股份有限公司
2009-06-24 ：
授权
2007-08-22 ：
实质审查的生效
2007-06-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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