真空处理装置用开闭机构及真空处理装置

专利权的终止

摘要

本发明提供一种真空处理装置用开闭机构，包括：连杆机构，由用于闭塞第一及第二开口部的第一及第二阀体向着相反方向而配置在前端部的阀体支撑部件、和通过旋转轴可自由旋转地安装在该阀体支撑部件的后端部的基端侧部件构成；引导机构，限制所述阀体支撑部件的上下移动范围、并在所述第一及第二阀体水平移动的方向上可旋转地支撑所述阀体支撑部件；在上下方向上且在最上部在水平方向上使所述旋转轴移动的第一及第二引导部件；和使所述第一引导部件及所述第二引导部件以及所述基端侧部件上下移动的第一及第二上下移动机构。

基本信息

专利标题：

真空处理装置用开闭机构及真空处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1794422A

申请号：

CN200510132325.6

公开（公告）日：

2006-06-28

申请日：

2005-12-21

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

近藤圭祐

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

优先权：

CN200510132325.6

主分类号：

H01L21/00

IPC分类号：

H01L21/00 H01L21/20 H01L21/306 H01L21/31 C23C16/00 C23C14/00 C23F4/00 F16K51/02