光记录介质

专利权的终止

摘要

本发明涉及光记录介质。根据本发明的一个实施例的光记录介质包括基片和位于基片上的信息记录层。信息记录层包括包含从Ag、In、Ge、Sb和Te构成的组中选择的至少一种元素的第一记录层，包含从Si、Sn、Sb和Ge构成的组中选择的至少一种元素的第二信息记录层，和包含从Ni、Ag、Au、W、Cr和Mo构成的组中选择的至少一种元素的第三信息记录层。因此，通过由三个记录层组成并去除反射层和介质层，本发明的光记录介质可以减少厚度和制造成本。

基本信息

专利标题：

光记录介质

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1909087A

申请号：

CN200510135819.X

公开（公告）日：

2007-02-07

申请日：

2005-12-23

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

李光烈

申请人：

LG电子株式会社

申请人地址：

韩国首尔

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

樊卫民

优先权：

CN200510135819.X

主分类号：

G11B7/24

IPC分类号：

G11B7/24 G11B7/243