无掩模应用中指示衬底上故障的系统和方法

专利权的视为放弃

摘要

用于指示衬底上故障的方法和系统。本发明的方法包括以下步骤。确定数据是否包括至少一个可疑位。利用所述数据控制图案发生器。利用所述图案发生器使辐射束具有图案。将具有图案的辐射束中的特征投射到衬底的目标部分。将具有图案的辐射束中的一个或多个标记投射到所述衬底上，指示与至少一个可疑位相对应的目标部分。

基本信息

专利标题：

无掩模应用中指示衬底上故障的系统和方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1797219A

申请号：

CN200510137836.7

公开（公告）日：

2006-07-05

申请日：

2005-12-27

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

M·H·H·霍克斯

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

杨凯

优先权：

CN200510137836.7

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G03F7/00

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2010-08-25 ：

专利权的视为放弃

号牌文件类型代码 : 1606
号牌文件序号 : 101004993947
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2005101378367
放弃生效日 : 20060705

2007-12-19 ：

实质审查的生效

2006-07-05 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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