一种研磨涂覆晶种层生长制备沸石膜方法
专利权的终止
摘要
本发明属于化学工程技术领域的无机膜制备方法，涉及到一种研磨涂覆晶种层生长制备沸石膜方法。其特征是用按照一定的Na2O∶SiO2∶Al2O3∶H2O的摩尔配比配制出凝胶，合成出微米级的晶粒，经研磨后用溶剂分散制备出纳米或亚微米级晶种悬浮液，在多孔支撑体上，以提拉法涂上晶种层，经干燥和焙烧固化后，放入不锈钢釜中，注入按一定的Na2O∶SiO2∶Al2O3∶H2O的摩尔比配制的凝胶液将其浸没，密封后置于160－180℃的温度下，恒温40－60小时，最后经取出，洗涤，干燥和焙烧后得到沸石膜。本发明的效果益处是：降低纳米或亚微米级晶种层制备的难度，沸石膜制备重复性好，适合工业规模制备和应用；对载体粗糙度限制低；具有实用性和通用性，对其它种类沸石膜的制备有重要借鉴意义
基本信息
专利标题 ：
一种研磨涂覆晶种层生长制备沸石膜方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1879952A
申请号 ：
CN200510200900.1
公开（公告）日 ：
2006-12-20
申请日 ：
2005-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王金渠祝刚鲁金明鲍仲瑛
申请人 ：
大连理工大学
申请人地址 ：
116024辽宁大连甘井子区凌工路2号
代理机构 ：
大连理工大学专利中心
代理人 ：
侯明远
优先权 ：
CN200510200900.1
主分类号 ：
B01D71/02
IPC分类号 ：
B01D71/02 C01B39/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D71/00
以材料为特征的用于分离工艺或设备的半透膜；其专用制备方法
B01D71/02
无机材料
法律状态
2016-02-24 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101647544165
IPC(主分类) : B01D 71/02
专利号 : ZL2005102009001
申请日 : 20051230
授权公告日 : 20120912
终止日期 : 20141230
号牌文件序号 : 101647544165
IPC(主分类) : B01D 71/02
专利号 : ZL2005102009001
申请日 : 20051230
授权公告日 : 20120912
终止日期 : 20141230
2012-09-12 ：
授权
2007-02-14 ：
实质审查的生效
2006-12-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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