作为添加剂含有具有特定骨架化合物的铜电解液以及由该铜电解...
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摘要

本发明的课题是,在使用阴极转筒制造电解铜箔时获得粗糙面侧(光面的相反侧)的表面粗糙度小的低断面电解铜箔,特别是获得一种可进行精细构图、进而伸长率和抗拉强度优异的电解铜箔。另外,本发明的课题还在于获得可以对2层挠性基板均匀地、无针孔地进行镀铜的铜电解液。即,一种铜电解液,作为添加剂,含有通过使1分子中具有1个以上环氧基的化合物与水进行加成反应而得到的下述通式(1)所示的具有特定骨架的化合物。(通式(1)中,A为环氧化合物残基,n表示1以上的整数)。

基本信息
专利标题 :
作为添加剂含有具有特定骨架化合物的铜电解液以及由该铜电解液制造的电解铜箔
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1946879A
申请号 :
CN200580012825.4
公开(公告)日 :
2007-04-11
申请日 :
2005-12-09
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
土田克之小林弘典熊谷正志
申请人 :
日矿金属株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京市中咨律师事务所
代理人 :
段承恩
优先权 :
CN200580012825.4
主分类号 :
C25D3/38
IPC分类号 :
C25D3/38  C25D7/00  C25D1/04  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D3/00
电镀;其所用的镀液
C25D3/02
溶液
C25D3/38
铜的
法律状态
2021-04-02 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : C25D 3/38
变更事项 : 专利权人
变更前 : 捷客斯金属株式会社
变更后 : 捷客斯金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京都
变更后 : 日本东京都港区虎之门二丁目10番4号
2017-04-12 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101749932698
IPC(主分类) : C25D 3/38
专利号 : ZL2005800128254
变更事项 : 专利权人
变更前 : 吉坤日矿日石金属株式会社
变更后 : 捷客斯金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京都
变更后 : 日本东京都
2011-05-04 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101083903691
IPC(主分类) : C25D 3/38
专利号 : ZL2005800128254
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 日矿金属株式会社
变更后权利人 : 吉坤日矿日石金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本东京都
登记生效日 : 20110324
2010-05-05 :
授权
2007-06-06 :
实质审查的生效
2007-04-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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