电致发光光源

专利权的终止

摘要

一种电致发光光源，其包括具有施加的层结构的基板(1)，所述层结构包括第一子层结构、第二子层结构(2)、以及第三子层结构(3)，该第一子层结构包括作为阳极(3)的至少一个电极、作为阴极(7)的一个电极、以及位于此二者之间用于发光的电致发光层(5)，其中两个电极中之一被设置用于反射光而另一个电极被设置用于透射光，所述第二子层结构(2)与用于透射的电极相邻，所述第二子层结构(2)包括至少一个用于部分反射光的半透明层，所述第三子层结构(3)如从光的发射方向所看到那样被设置在第二子层结构的后面，所述第三子层结构包括具有粒子(10)的一个层(9)，用于吸收在阈值波长之下的波长的一些光、用于发射在阈值波长之上的波长的光、和用于散射未被吸收的光。结果，在微腔布置的情况下发射的角度相关性被补偿且利用在更长波长的吸收和再发射在发射中向更短

基本信息

专利标题：

电致发光光源

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101040397A

申请号：

CN200580034870.X

公开（公告）日：

2007-09-19

申请日：

2005-09-29

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

H·－H·贝克特尔W·巴塞尔特

申请人：

皇家飞利浦电子股份有限公司

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

王庆海

优先权：

CN200580034870.X

主分类号：

H01L51/52

IPC分类号：

H01L51/52 H01L33/00