高纯度氧双邻苯二甲酸酐及其制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种高纯度氧双邻苯二甲酸酐及其制造方法。在制造含有氧双邻苯二甲酸酐的聚酰亚胺时，使用本发明提供的高纯度氧双邻苯二甲酸酐可以制造出具有足够高强度的聚酰亚胺，本发明提供的高纯度氧双邻苯二甲酸酐的制造方法在工业上简单易行。在每克所述高纯度氧双邻苯二甲酸酐中，相当投影面积的圆直径为5μm～20μm的不溶性微粒物的含量为3000个以下，并且，该氧双邻苯二甲酸酐在乙腈中以4g/L的浓度溶解得到的溶液，在光程长为1cm时的400nm光线透过率为98.5％以上。
基本信息
专利标题 ：
高纯度氧双邻苯二甲酸酐及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101068799A
申请号 ：
CN200580040983.0
公开（公告）日 ：
2007-11-07
申请日 ：
2005-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
长山和弘横山寿治高原润新田诚三上洋
申请人 ：
三菱化学株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
丁香兰
优先权 ：
CN200580040983.0
主分类号 ：
C07D307/89
IPC分类号 ：
C07D307/89 C07B63/00 C08G73/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D307/00
杂环化合物，含五元环，含有1个氧原子作为仅有的杂环原子
C07D307/77
与碳环或碳环系邻位或迫位稠合
C07D307/87
苯并呋喃：氢化苯并呋喃
C07D307/89
有两个氧原子直接连在位置1和3
法律状态
2011-01-05 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101058676779
IPC(主分类) : C07D 307/89
专利申请号 : 2005800409830
公开日 : 20071107
号牌文件序号 : 101058676779
IPC(主分类) : C07D 307/89
专利申请号 : 2005800409830
公开日 : 20071107
2008-01-02 ：
实质审查的生效
2007-11-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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