荧光二酮基吡咯并吡咯化合物
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明涉及式(I)或(III)的荧光二酮基吡咯并吡咯化合物,其制备方法,及其在制备油墨、着色剂、着色塑料、涂料、非击打式打印材料、滤色器、化妆品、聚合物油墨颗粒、调色剂(toner),作为荧光示踪剂,在变色介质、固体染料激光器、EL激光器和电致发光(EL)器件中的用途。包含本发明化合物或组合物的发光器件具有高电能利用率和高发光度。

基本信息
专利标题 :
荧光二酮基吡咯并吡咯化合物
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101072842A
申请号 :
CN200580042191.7
公开(公告)日 :
2007-11-14
申请日 :
2005-11-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
H·雅马莫托H·奥卡M·杜格利
申请人 :
西巴特殊化学品控股有限公司
申请人地址 :
瑞士巴塞尔
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
刘健
优先权 :
CN200580042191.7
主分类号 :
C09K11/06
IPC分类号 :
C09K11/06  H01L51/30  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C09
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料;不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K11/00
发光材料,例如电致发光材料、化学发光材料
C09K11/06
含有机发光材料
法律状态
2013-08-07 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101645430680
IPC(主分类) : C07D 403/00
专利申请号 : 2005800421917
申请公布日 : 20071114
2008-02-06 :
实质审查的生效
2007-11-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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