高电阻率组合物
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摘要

本发明涉及通过将可固化涂层组合物涂覆到基材上以形成可固化涂层,成像地固化可固化涂层以形成涂层,并显影和干燥该涂层而形成的黑底。可固化涂层组合物包括载体,可固化树脂,和至少一种改性颜料,该改性颜料包括连接有至少一种具有通式-X-I或-X-NI的有机基团的颜料,其中直接连接到颜料的X表示亚芳基或杂亚芳基、亚烷基、亚芳烷基、或亚烷芳基,I表示包括至少一种离子基团或至少一种可离子化基团的非聚合基团,和NI表示包括至少一种非离子基团的非聚合基团。还描述了可固化涂层组合物,可固化涂层,和固化的涂层。还公开了控制涂层的电阻率的方法。

基本信息
专利标题 :
高电阻率组合物
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101371194A
申请号 :
CN200580042733.0
公开(公告)日 :
2009-02-18
申请日 :
2005-10-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
尤金·N·斯特普阿加莎格洛斯·克利迪斯
申请人 :
卡伯特公司
申请人地址 :
美国马萨诸塞州
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
宋莉
优先权 :
CN200580042733.0
主分类号 :
G03F7/00
IPC分类号 :
G03F7/00  C09D7/00  C09D5/02  C09D7/12  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2012-01-04 :
授权
2009-04-15 :
实质审查的生效
2009-02-18 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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