具有中孔颗粒的混合基质膜及其制备方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

公开了从气体组分的混合物中分离气体组分的混合基质膜。该膜包括连续相聚合物与散布于该聚合物中的无机多孔颗粒，优选分子筛。该聚合物具有至少20的CO₂/CH₄选择性，该多孔颗粒具有至少0.1cc STP/g的中孔隙率。与由纯聚合物制备的膜相比，该混合基质膜的渗透性提高至少30％，而选择性的任何降低不超过10％。该多孔颗粒可以包括、但不限于分子筛例如CVX－7和SSZ－13和/或其它具有所需中孔隙率的分子筛。还公开了制备该混合基质膜的方法。此外，公开了使用具有中孔颗粒的混合基质膜从气体组分的混合物中分离气体组分的方法。

基本信息

专利标题：

具有中孔颗粒的混合基质膜及其制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101084052A

申请号：

CN200580043656.0

公开（公告）日：

2007-12-05

申请日：

2005-11-18

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

S·J·米勒A·库珀曼D·Q·武

申请人：

切夫里昂美国公司

申请人地址：

美国加利福尼亚

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

邓毅

优先权：

CN200580043656.0

主分类号：

B01D53/22

IPC分类号：

B01D53/22