一种简单器件被用于使在装置中的温度均匀并被用于改进与反应气体，硒和硫的接触的状态。将作为用于气氛均匀化的器件的风扇(3)放置于装置中，并且将工件以可使反应气体平稳循环的方式放置。即，平坦的板状工件(2)在一定间距下彼此远离地放置，其平行于所述装置的长轴方向，同时保持所述板垂直，以使得所述装置在所述工件组内具有通道并且在所述工件上部和下部和在其两边有气体通道。因此，每个工件易于与在所述装置中的反应气体接触，并且在所述装置中的温度是均匀的。改进了与所述反应气体，硒和硫的接触的状态。