制备硼取代的卟啉的方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明公开了制备式I化合物及中间体化合物的方法，在式I中，M为单光子发射可断层摄影成像的射电金属(radiometal)和/或顺磁性金属，R为氢或卤素，前提是至少一个R为卤素，Y选自邻、间或对位的O(CH₂)_nC₂HB₉H₁₀或O(CH₂)_nC₂HB₁₀H₁₀，其中n为0或从1至20的整数，O(CH₂)_nC₂HB₉H₁₀为巢形的邻、间或对位的碳硼烷，O(CH₂)_nC₂HB₁₀H₁₀为邻、间或对位的碳硼烷。

基本信息

专利标题：

制备硼取代的卟啉的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101098713A

申请号：

CN200580045988.2

公开（公告）日：

2008-01-02

申请日：

2005-12-13

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

P·S·伯里K－D·李A·D·本瑟姆B·C·M·帕特尔

申请人：

普赛梅医药有限公司

申请人地址：

英国萨里郡

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

黄革生

优先权：

CN200580045988.2

主分类号：

A61K41/00

IPC分类号：

A61K41/00 C07D487/22