平面显示基板的制作方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明公开了一种平面显示基板的制作方法，其包括的步骤有：提供一具有图案透明电极的基板、以及形成一配向膜于透明电极的表面，且配向膜含有一垂直配向膜(homeotropic alignment film)与一紧邻于垂直配向膜的水平配向膜(homogeneous alignment film)。其中，垂直配向膜是通过印刷形成于水平配向膜的上方处或其周缘。由此，本发明平面显示基板的制作方法不需增加光掩膜与特殊光掩膜的制作工艺，亦无需要复杂的阶段性变化曝光，不仅减少重复磨刷配向所造成的问题，且提供了一低成本的制作方法。

基本信息

专利标题：

平面显示基板的制作方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1828392A

申请号：

CN200610001087.X

公开（公告）日：

2006-09-06

申请日：

2006-01-16

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

丁进国

申请人：

广辉电子股份有限公司

申请人地址：

台湾省桃园县

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

董惠石

优先权：

CN200610001087.X

主分类号：

G02F1/1337

IPC分类号：

G02F1/1337 G02F1/1333

IPC结构图谱

G部——物理

G02

光学

G02F

用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器

G02F1/00

控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学

G02F1/01

对强度、相位、偏振或颜色的控制

G02F1/13

基于液晶的，例如单位液晶显示单元

G02F1/133

构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置

G02F1/1333

构造上的设备

G02F1/1337

液晶分子的表面诱导取向，例如借助列向层

法律状态

2009-01-28 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

2008-01-02 ：

专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 广辉电子股份有限公司
变更后权利人 : 友达光电股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 台湾省桃园县
变更后权利人 : 台湾省新竹市
登记生效日 : 20071130

2006-10-25 ：

实质审查的生效

2006-09-06 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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