防反射膜、防反射膜的制法、偏振片及显示装置
授权
摘要
本发明提供耐擦伤性、铅笔硬度、龟裂、雾度值、耐光性、平面性改善的防反射膜及其制法，通过使用该防反射膜，提供视觉辨认性优异的偏振片、显示装置。上述防反射膜是在具有膜厚8～20μm的硬涂层的透明基体材料膜上设置2层或2层以上光学干涉层的防反射膜，其特征在于，依次叠层由含有(a)粒径为10～200nm的金属氧化物微粒、(b)金属化合物、(c)电离辐射固化型树脂的组合物构成的折射率比该透明基体材料膜高的高折射率层；和由含有(d)通式Si(OR) 4表示的有机硅化合物或由它构成的聚合物、以及(e)具有外壳层且内部为多孔的或空穴的中空二氧化硅类微粒构成的折射率比该透明基体材料膜低的低折射率层。
基本信息
专利标题 ：
防反射膜、防反射膜的制法、偏振片及显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1821813A
申请号 ：
CN200610004231.5
公开（公告）日 ：
2006-08-23
申请日 ：
2006-02-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小岛良和前岛胜己池田俊之
申请人 ：
柯尼卡美能达精密光学株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
张平元
优先权 ：
CN200610004231.5
主分类号 ：
G02B1/11
IPC分类号 ：
G02B1/11 G02F1/1335 G02B5/30 G02F1/133
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
法律状态
2009-03-11 ：
授权
2007-11-21 ：
实质审查的生效
2006-08-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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