定位控制用气压缸
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摘要
在定位控制用气压缸中，通过极简单的手段，有效地控制在定位目标位置附近等处产生的活塞的微振动。在通过定位控制使活塞(5)停止于目标位置处的气压缸(1)的活塞杆(6)上设有微振动抑制机构(20)。所述微振动抑制机构(20)具有由与活塞杆(6)接触的一对密封件(21a)形成的摩擦件(21)，利用该摩擦件(21)形成向杆(6)的周围供给的压缩空气的空气滞留部(22)，并且，设置向所述空气滞留部(22)给排压缩空气的空气流道(23)，其中，所述压缩空气用于经由所述摩擦件(21)在与活塞杆(6)之间产生抑制微振动的滑动摩擦。
基本信息
专利标题 ：
定位控制用气压缸
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1821587A
申请号 ：
CN200610004442.9
公开（公告）日 ：
2006-08-23
申请日 ：
2006-02-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨清海畠山正俊中野和夫宫地博
申请人 ：
SMC株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
史雁鸣
优先权 ：
CN200610004442.9
主分类号 ：
F15B9/09
IPC分类号 ：
F15B9/09 F15B11/024 F15B11/06 G05D3/00 G05D3/12
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F15
流体压力执行机构；一般液压技术和气动技术
F15B
一般流体工作系统；流体压力执行机构，如伺服马达；不包含在其他类目中的流体压力系统的零部件
F15B
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F15B9/00
具有随动作用的伺服马达，即其中被驱动部件的位置与控制部件一致
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F15B9/08
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F15B9/09
带有电控装置
法律状态
2010-10-06 ：
授权
2006-10-18 ：
实质审查的生效
2006-08-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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