低压处理机台的维护方法及其输送装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

一种低压处理机台的维护方法及其输送装置。该输送装置包括一第一气压致动器、一第二气压致动器、第一滑动组件、第二滑动组件、一支撑结构以及连结组件。第一滑动组件设于第一气压致动器之上;第二滑动组件设于第二气压致动器之上;支撑结构设于第一气压致动器与第二气压致动器之间;连结组件设于支撑结构之上。应用本发明的输送装置,可将低压处理机台的壳体从基座拆卸及移动以进行清洁。因此,可以在原壳体(第一壳体)拆卸之后,直接以另一壳体(第二壳体)替换安装至基座之上,而继续低压处理机台的运作,藉此可缩短低压处理机台的停机时间,避免产能的损失以及时间与金钱的浪费。

基本信息
专利标题 :
低压处理机台的维护方法及其输送装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1808283A
申请号 :
CN200610007764.9
公开(公告)日 :
2006-07-26
申请日 :
2006-02-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
黄庭辉
申请人 :
广辉电子股份有限公司
申请人地址 :
台湾省桃园县
代理机构 :
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 :
任默闻
优先权 :
CN200610007764.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-07-21 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003367862
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2006100077649
公开日 : 20060726
2007-12-26 :
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 广辉电子股份有限公司
变更后权利人 : 友达光电股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 台湾省桃园县
变更后权利人 : 台湾省新竹市
登记生效日 : 20071123
2006-09-20 :
实质审查的生效
2006-07-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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