高活性铁/锡离子共掺杂纳米二氧化钛光触媒的制备方法

专利权的终止

摘要

本发明提供了一种高活性铁/锡离子共掺杂纳米二氧化钛光触媒的制备方法，属于光触媒材料技术领域。工艺步骤为：先制备Fe³⁺/Sn⁴⁺共掺杂的TiO₂溶胶，再制备Fe³⁺/Sn⁴⁺共掺杂的TiO₂薄膜。优点在于：制备的Fe³⁺/Sn⁴⁺双掺杂的纳米TiO₂薄膜具有锐钛矿和金红石相的混晶结构，平均晶粒尺寸为20nm，经分析确定金红石相是Fe³⁺、Sn⁴⁺固溶到TiO₂晶格中形成的固溶体晶相；在玻璃基体上镀制的薄膜透明，表面平整光滑；掺杂Fe³⁺、Sn⁴⁺使得TiO₂光触媒薄膜对入射光的吸收带边红移至可见光区，产生可见光诱导光催化效应；显著提高了TiO₂薄膜的光催化活性，相较纯纳米TiO₂薄膜，对甲基橙的光催化降解率提高了2倍。

基本信息

专利标题：

高活性铁/锡离子共掺杂纳米二氧化钛光触媒的制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1799693A

申请号：

CN200610011239.4

公开（公告）日：

2006-07-12

申请日：

2006-01-19

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

徐利华邸云萍王缓

申请人：

北京科技大学

申请人地址：

100083北京市海淀区学院路30号

代理机构：

北京科大华谊专利代理事务所

代理人：

刘月娥

优先权：

CN200610011239.4

主分类号：

B01J37/02

IPC分类号：

B01J37/02 B01J21/06