纳米三基色光电复合膜
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种纳米材料与高分子光电材料复合的三基色光致导电膜，能均匀地对从红外到不同波长(颜色)的可见光敏感，因此彩色信号不失真，由于纳米材料的加入，灵敏度提高了，像素变小，使单位面积的像素增多几个数量级，同时降低了暗衰减值，ITO层中因纳米金属丝或纳米晶须的加入，在不影响透明的前提下，提高了电导和机械强度，产品广泛用于静电复印、激光打印机、数码照像或摄像、信息记录和传递、医疗、军事、空间探测、光导纤维、图像传感器、微型光电开关等领域。
基本信息
专利标题 ：
纳米三基色光电复合膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101009359A
申请号 ：
CN200610020222.5
公开（公告）日 ：
2007-08-01
申请日 ：
2006-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
孙先明
申请人 ：
孙先明
申请人地址 ：
621000四川省绵阳市涪城区御旗路5号(市职业技术学校)
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200610020222.5
主分类号 ：
H01L51/42
IPC分类号 ：
H01L51/42 H01L51/46 H01L51/44 H01G9/20 H01M14/00
法律状态
2009-08-12 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-09-26 ：
实质审查的生效
2007-08-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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