制备高分散短碳纳米管的化学剪切方法
专利权的终止
摘要

一种制备高分散短碳纳米管的化学剪切方法,属于纳米技术领域。本发明采用湿化学的方法在经硝酸纯化的碳纳米管表面沉积金属镍颗粒再利用金属镍的氧化还原反应,对碳纳米管进行化学剪切,从而得到高分散短碳纳米管。因为经酸洗过的碳纳米管表面存在很多缺陷,碳原子不稳定,很容易发生氧化或还原反应,通过镍促使氧化还原反应的发生,从而使碳管壁上的缺陷进一步被刻蚀,达到化学剪切碳纳米管的目的。本发明制备高分散,长度可在200nm以下的短碳纳米管。

基本信息
专利标题 :
制备高分散短碳纳米管的化学剪切方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1807233A
申请号 :
CN200610023633.X
公开(公告)日 :
2006-07-26
申请日 :
2006-01-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王健农王晓霞苏连锋牛钧杰
申请人 :
上海交通大学
申请人地址 :
200240上海市闵行区东川路800号
代理机构 :
上海交达专利事务所
代理人 :
王锡麟
优先权 :
CN200610023633.X
主分类号 :
C01B31/02
IPC分类号 :
C01B31/02  
法律状态
2013-03-27 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101423718269
IPC(主分类) : C01B 31/02
专利号 : ZL200610023633X
申请日 : 20060126
授权公告日 : 20081217
终止日期 : 20120126
2008-12-17 :
授权
2006-09-20 :
实质审查的生效
2006-07-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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