基坑在局部开口处的围护方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种基坑在局部开口处的围护方法。包括：在基坑局部开口处障碍物的两侧进行倾斜的三重管旋喷桩施工；以及在三重管旋喷桩位置以另一较大角度进行倾斜的二重管旋喷桩施工；打设垂直旋喷桩与止水帷幕搭接封闭等步骤。本发明通过采用多角度组合旋喷桩工艺，在管线周围采用旋喷桩进行基坑止水。对管线底下部位加固到位，止水的死角可通过旋喷桩施工的角度变化，控制到几乎为零，从而保证整个基坑止水帷幕的整体性和施工的安全性。采用本发明施工方法进行基坑开口处的围护施工，可以使整个工程工期不受管线翻迁等外界因素的影响，按时完成工程，其中的社会和经济效益是无法估量的。
基本信息
专利标题 ：
基坑在局部开口处的围护方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101008179A
申请号 ：
CN200610023665.X
公开（公告）日 ：
2007-08-01
申请日 ：
2006-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
赵琪杜建军周恩度汪思满戚长根陈子耀
申请人 ：
上海市第二建筑有限公司
申请人地址 ：
200080上海市梧州路289号
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
钟玉敏
优先权 ：
CN200610023665.X
主分类号 ：
E02D17/02
IPC分类号 ：
E02D17/02 E04B1/35
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
法律状态
2009-07-15 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-09-26 ：
实质审查的生效
2007-08-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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