用于光学加工抛光的标示方法
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种用于光学加工抛光的标示方法，利用干涉仪的波面干涉测量法，由光电器件接收干涉条纹，通过计算获得被测工件表面的高低位置分布，并生成假彩图，其特征在于：采用所述干涉仪，由同一光电器件接收干涉条纹和被测工件的像，在显示器上进行实时动态显示，将所述假彩图处理成半透明图像，在显示器上叠加显示在所述干涉条纹及被测工件的像上，根据假彩图和实时干涉条纹像对需要加工的高位置和不需要加工或需要少加工的低位置进行标示。本发明能方便地实时标示高低位置；可以避免象差造成的定位误差，特别适合于高精度光学元件的加工。
基本信息
专利标题 ：
用于光学加工抛光的标示方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1803402A
申请号 ：
CN200610037922.5
公开（公告）日 ：
2006-07-19
申请日 ：
2006-01-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郭培基
申请人 ：
苏州大学
申请人地址 ：
215006江苏省苏州市沧浪区十梓街1号
代理机构 ：
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 ：
陶海锋
优先权 ：
CN200610037922.5
主分类号 ：
B24B49/12
IPC分类号 ：
B24B49/12 B24B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B49/00
用于控制磨具或工件进给运动的测量或校准装置；指示或测量装置的布置，如用于指示磨削加工开始的
B24B49/12
使用光学装置
法律状态
2021-01-01 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B24B 49/12
申请日 : 20060120
授权公告日 : 20091230
终止日期 : 20200120
申请日 : 20060120
授权公告日 : 20091230
终止日期 : 20200120
2009-12-30 ：
授权
2006-09-13 ：
实质审查的生效
2006-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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