西瓜子叶离体培养间接再生植株的方法

专利权的终止

摘要

本发明公开了一种西瓜子叶离体培养间接再生植株的方法，包括以下步骤：1)、种子发芽：选用京欣或伊选类西瓜栽培种为材料进行种子发芽；2)、愈伤组织诱导：选取上述4日龄幼苗无菌苗的胚轴与子叶之间部位作为外植体接种到诱导培养基上，于25℃的黑暗条件下培养20天，诱导获得愈伤组织；3)、愈伤组织分化不定芽：将愈伤组织转到分化培养基上，并移到光下继续培养30天，获得间接再生不定芽；4)、将上述间接再生不定芽进行伸长、生根培养，获得间接再生植株。使用本发明的方法，能获得完整植株——西瓜间接再生植株。

基本信息

专利标题：

西瓜子叶离体培养间接再生植株的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1806529A

申请号：

CN200610049596.X

公开（公告）日：

2006-07-26

申请日：

2006-02-24

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

张明方闫静齐晓花杨景华

申请人：

浙江大学

申请人地址：

310027浙江省杭州市西湖区玉古路20号

代理机构：

杭州中成专利事务所有限公司

代理人：

唐银益

优先权：

CN200610049596.X

主分类号：

A01H4/00

IPC分类号：

A01H4/00 C12N5/04 A01C1/00