一种石墨清洗装置

专利权的终止

摘要

一种石墨清洗装置，包括：一外壳，该外壳为一中空长方体结构；一石墨基座支架位于外壳内的下部；一石墨加热器为一箱体结构，该石墨加热器位于石墨基座支架的上方；一保温材料围绕在石墨加热器的四周；一上盖位于外壳的上方；一感应圈螺旋缠绕在外壳的外围；在外壳的一侧分别安装有三路气体入口；在外壳的另一侧安装有一个尾气排放口；一控温热电偶位于外壳的下部与石墨基座支架连接。用该装置清洗石墨基座时，不占用设备机时，提高设备的使用效率。

基本信息

专利标题：

一种石墨清洗装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101041892A

申请号：

CN200610064974.1

公开（公告）日：

2007-09-26

申请日：

2006-03-20

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

焦春美刘祥林

申请人：

中国科学院半导体研究所

申请人地址：

100083北京市海淀区清华东路甲35号

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

汤保平

优先权：

CN200610064974.1

主分类号：

C23C16/00

IPC分类号：

C23C16/00 C23C16/18 H01L21/205

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C16/00

通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺

法律状态

2014-05-14 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101582211499
IPC(主分类) : C23C 16/00
专利号 : ZL2006100649741
申请日 : 20060320
授权公告日 : 20090527
终止日期 : 20130320

2009-05-27 ：

授权

2007-11-21 ：

实质审查的生效

2007-09-26 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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