氧化铝生产用平底沉降槽
专利权的终止
摘要
本实用新型为氧化铝生产用平底沉降槽,用于氧化铝溶出浆料的连续沉淀洗涤,主要由圆柱型槽体组成,特点是在槽体侧壁的下方设置有四个出料口,四个出料口分为二组,对称分布。搅拌器设置在槽体底部且端部紧贴槽体内壁,最大限度地搅拌赤泥,赤泥在槽体内壁不会形成沉淀结疤,避免了赤泥脱落造成的运行障碍,避免了瞬间过载现象的发生。增设的多个出料口有效提高了产能效率,产能提高30%以上,并且对称设计的出料口优化了搅拌器运行过程中的受力状态,运行流畅。
基本信息
专利标题 :
氧化铝生产用平底沉降槽
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620009977.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-09-14
授权号 :
CN200943041Y
授权日 :
2007-09-05
发明人 :
张学信刘继军贾启谢锡增
申请人 :
贾启
申请人地址 :
252100山东省茌平县县城西七公里处茌平信发华宇氧化铝有限公司
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200620009977.0
主分类号 :
C01F7/02
IPC分类号 :
C01F7/02
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01F
金属铍、镁、铝、钙、锶、钡、镭、钍的化合物,或稀土金属的化合物
C01F7/00
铝的化合物
C01F7/02
氧化铝;氢氧化铝;铝酸盐
法律状态
2015-11-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101632311451
IPC(主分类) : C01F 7/02
专利号 : ZL2006200099770
申请日 : 20060914
授权公告日 : 20070905
终止日期 : 20140914
号牌文件序号 : 101632311451
IPC(主分类) : C01F 7/02
专利号 : ZL2006200099770
申请日 : 20060914
授权公告日 : 20070905
终止日期 : 20140914
2007-09-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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