一种气雾化或CVD反应用反应器

专利权的终止

摘要

本实用新型提供一种气雾化或CVD反应用反应器，包括一端连接有喷嘴的圆形管体，其特征在于：所述喷嘴为具有内孔、中层孔和外层孔的三层同轴孔喷嘴。所述外层孔的孔壁上设置有来复线结构。采用该反应器，有利于克服了传统的气雾化法或CVD法生产用反应器表面容易产生结疤的缺陷，可以提高反应器的使用周期，减小或避免结疤脱落造成产品污染的程度，从而保证正常的连续性生产。

基本信息

专利标题：

一种气雾化或CVD反应用反应器

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620022982.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-05-17

授权号：

CN2892261Y

授权日：

2007-04-25

发明人：

胡晞

申请人：

北京嘉益亨元科技发展有限公司;胡晞

申请人地址：

100085北京市海淀区上地信息路12号A414

代理机构：

北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司

代理人：

吴小灿

优先权：

CN200620022982.5

主分类号：

B01J19/26

IPC分类号：

B01J19/26

IPC结构图谱

B部——作业；运输

B01

一般的物理或化学的方法或装置

B01J

化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备

B01J19/00

化学的，物理的或物理—化学的一般方法；及其有关设备

B01J19/26

喷嘴式反应器，即反应器内的初始反应物的分布是受通过喷嘴导入或喷射作用的

法律状态

2016-06-29 ：

专利权的终止

专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101667773648
IPC(主分类) : B01J 19/26
专利号 : ZL2006200229825
申请日 : 20060517
授权公告日 : 20070425
终止日期 : 无

2009-12-30 ：

专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)

变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京嘉益亨元科技发展有限公司
变更后权利人 : 苏州华微特粉体技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 北京市海淀区上地信息路12号A414,邮编 : 100085
登记生效日 : 20091120
变更后权利人 : 江苏省苏州市苏州工业园区星湖街218号生物纳米园A4楼314室,邮编 : 215125
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 胡晞
变更后权利人 : 胡晞

2007-04-25 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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