浴足盆

专利权的终止(未缴年费专利权终止)

摘要

本实用新型涉及一种浴足盆。目前，公知的浴足盆，均为圆形浅底，只能浸泡到脚背，如需浸泡和搓洗到膝盖，就十分不便。为了克服上述不足之处，本实用新型提供一种桶式浴足盆，该浴足盆能浸泡到双足的更多部位。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：在不增加现有浴足盆盆口直径的情况下，在椭圆形的盆口下部，将盆身增高到2－4倍约20－50公分，这样在浴足时，要搓洗膝盖部位就十分方便了。本实用新型的有益效果是：浸泡部位增多，搓洗方便，有利卫生和保健。

基本信息

专利标题：

浴足盆

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620034191.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-05-15

授权号：

CN200987632Y

授权日：

2007-12-12

发明人：

张航

申请人：

张航

申请人地址：

610016四川省成都市商业场4楼11号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN200620034191.4

主分类号：

A47K3/022

IPC分类号：

A47K3/022