纳米光触媒水槽装置

专利权的终止

摘要

一种新型二氧化钛纳米光触媒水槽装置，水槽装置包括一个水槽主体，其特征在于在水槽表面涂有纳米二氧化钛光触媒溶胶层，在水槽上方装设有一照明光源。水槽可为任一造型的水槽；照明光源可采用任何外观型状的普通的灯源、紫外灯或自然光线；照明光源在水槽上方的位置并无特定要求，主要是能满足照射到纳米二氧化钛光触媒涂层即可。水槽表面的纳米二氧化钛光触媒涂层，具有高度的自洁效应，一旦这些表面被油污等污染，因其表面具有超亲水性，污物不易在表面附着。并且纳米二氧化钛光触媒，在光源的照射下可产生优质的氧负离子(O₂^－)及氢氧自由基()等具有高度氧化活性的物质，因此可在涂膜表面具有良好的抗菌性。

基本信息

专利标题：

纳米光触媒水槽装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620041121.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-04-17

授权号：

CN200949245Y

授权日：

2007-09-19

发明人：

黄建国

申请人：

泉耀新材料科技(上海)有限公司

申请人地址：

200237上海市徐汇区嘉川路245号南幢403、406室

代理机构：

上海天翔知识产权代理有限公司

代理人：

黄静

优先权：

CN200620041121.1

主分类号：

E03C1/18

IPC分类号：

E03C1/18 B01J21/06 A61L2/232 F21V33/00