脱除气相法合成SiO2表面酸性物质...
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种脱除气相法合成SiO2表面酸性物质的脱酸炉，在脱酸炉(2)的内壁，沿法线方向设有长条状的抄板(9)，所说的抄板(9)的一端与脱酸炉(2)的内壁固定连接，在脱酸炉内，靠近物料入口端处设有物料阻挡板，物料阻挡板(11)的一侧设有挡料条(15)，物料阻挡板通过连接件固定在脱酸炉的内壁，物料阻挡板与脱酸炉的内壁之间设有流道。本实用新型的脱酸炉，简单实用，所获得的产品，品质大大提高，而能耗大幅度降低，将具有较大的工业化实施前景。
基本信息
专利标题 ：
脱除气相法合成SiO2表面酸性物质的脱酸炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200620045503.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2006-09-04
授权号 ：
CN200949050Y
授权日 ：
2007-09-19
发明人 ：
岳群江雄旺胡伟敏马鸿春钱学林
申请人 ：
上海氯碱化工股份有限公司
申请人地址 ：
200241上海市龙吴路4747号
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
罗大忱
优先权 ：
CN200620045503.1
主分类号 ：
C01B33/113
IPC分类号 ：
C01B33/113
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/113
氧化硅；其水合物
法律状态
2016-11-02 ：
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101685480680
IPC(主分类) : C01B 33/113
专利号 : ZL2006200455031
申请日 : 20060904
授权公告日 : 20070919
终止日期 : 无
号牌文件序号 : 101685480680
IPC(主分类) : C01B 33/113
专利号 : ZL2006200455031
申请日 : 20060904
授权公告日 : 20070919
终止日期 : 无
2007-09-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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